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莱特莱德技术人员整理总结3M—CUNO滤芯技术资料

文章出处:pp滤芯作者:PP滤芯厂家发表时间:2012-10-16

  莱特莱德技术人员整理总结3M—CUNO滤芯技术资料

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  3M CUNO是液体(气体)分离、澄清和纯化领域的技术领先者,为客户提供整体的过滤解决方案。CUNO在2006年为全球500强企业3M收购,现为3M旗下工业过滤产品的全资子品牌,拥有90余年的历史,全球各部门超过1,600名员工,在7个国家分布有13个制造工厂,并在65个国家设有办事机构.CUNO拥有范围广泛的产品、先进的制造能力、全球构架、技术专家和客户支持。CUNO提供了满足客户需求的创新型解决方案,同时又不断开发更好的新方法以防止制造工艺受污染。细分市场的识别和新型专业应用的开发对保持和发展市场至关重要。从DI水UPW(超纯水系统)到化学机械平整处理(CMP)的光阻材料,CUNO技术有着广泛应用。最新产品包括PhotoSHIELDTM尼龙过滤器滤芯、用于光阻材料的膜片、辅助化工产品应用、OPTIMATM过滤器滤芯及用于CMP应用的膜片。在晶圆、集成电路、视频显示器和数据存储设备的清洁异常重要的DI水应用领域,CUNO过滤和净化系统是优先选择。莱特莱德工作人员为顾客查找方便整理总结3M—CUNO滤芯技术资料。

  3M—CUNO滤芯产品型号

  CUNO薄膜滤芯和囊式过滤系统

  ◆ Electropor® II 过滤器

  ◆ Microfluor® II过滤器

  ◆ PhotoSHIELDTM过滤器

  ◆ LifeASSURETM IMC过滤器

  ◆ LifeASSURETM EMC过滤器

  ◆ SCF囊式过滤器

  CUNO褶皱介质滤芯和囊式过滤系统

  ◆ Betafine® XL过滤器

  ◆ Polypro® XL过滤器

  CUNO深层滤芯过滤系统

  ◆ OPTIMALTM CMP滤芯和囊式过滤器

  ◆ PolyNet® 过滤器

  ◆ Betapure® 刚性过滤器

  ◆ DuoFLO® 过滤器

  ◆ Micro-Wynd® II过滤器

  ◆ Micro-Screen® 过滤器

  ◆ PolyKLEANTM过滤器

  CUNO褶皱介质滤芯和囊式过滤系统

  ◆ Zeta Plus® 金属离子净化器

  ◆ 活性碳过滤净化器

  ◆ ZetaCarbon净化器

  3M—CUNO的过滤和净化产品具有以下优势:

     
更好地去除固体和软胶质污染物  
提高过滤寿命、降低拥有成本(CoO)  
更高的流速  
  
  
更低的压降  
缺陷减少,产出增加  
提高所有设备的效率(OEE)  
  
  
对多种流体有极高的化学和热学兼容性  
快速安装,减少处理有毒化学试剂的机会  
持久稳定的过滤效率允许工艺的重复  
  
  
可去除痕量金属  
  
  
  
 

  CUNO技术优势:

  CUNO已经开发出很多的创新性的设计和生产技术。所有的设计都涵盖了过滤器客户的近期和未来需要,同时很多在半导体和电子工业有直接的应用。这些应用包括:

  先进打褶技术TM(APT)制造FlexNTM复合膜ZetaPlus® 净化器 正电强化膜

  先进打褶技术制造

  通常在光阻材料和化工产品中会有少量胶质颗粒。从光阻材料和化工产品中去除这些颗粒在很大程度上取决于过滤系统的压差。由于胶质颗粒可变形,因此在高压差时能够通过过滤系统。压差低时,胶质颗粒变形的力相应减小,这样可通过膜介质将其吸附住。CUNO已经可以使过滤表面积达到最大化,保证了进入泵的压强和压差较小,这对于胶质颗粒的去除是最佳的。而过滤表面积增加是通过先进打褶技术实现的。

  折叠滤芯的服务寿命通常由其所能达到的有效表面积决定。传统的折叠过滤器可提供较大的总表面积,但是当介质被压进滤芯时,只使用了部分表面积,从而使流动受限,容污能力因此受到限制。““盲区”“和没有用到的面积通常在折叠压缩最紧密处的内径附近。APT滤芯过滤器是通过使用能降低外部折叠之间开放面积的交错和阶梯形配置来制造的。通过增加开放面积使更大的颗粒在内径处附着,同时较短的阶梯折叠利用了现存的更加接近滤芯外径的开放空间,该项新技术使容量达到最大。结果是全部表面都被利用,并提供了更长的使用寿命。

  FlexNTM复合膜

  FlexN膜创造了一个复合膜,该膜包含一个位于膜上部的“开放”区域和一个位于下部的“控制”区域。在功能上,开放区域通过拦截较大的颗粒而起着前置过滤器的作用,而控制区域则截留了较小的污染物。多层结构摒除了双层膜结构,提供了更大的表面积,极大地提高了容污能力,使服务寿命更长、压降更低。

  Zata Plus® 痕量金属净化器

  离子交换柱通常用于降低痕量金属或光阻材料、溶剂和辅助化工产品的离子污染。然而,尽管这项技术可有效降低痕量金属和离子污染方面,它缺乏材料供应商和半导体加工所要求的处理能力。通常认为流体阻值最小,而离子交换柱在树脂珠之间有空间和空隙。因此需要以低流速来确保流体和树脂珠之间的接触,以最大限度地去除金属和离子污染。

  CUNO已经开发出一种过滤器,它能从光阻材料、溶液和辅助化工产品中去除金属和离子污染而在不影响流速的同时提高处理量。Zata Plus过滤器包含多个高性能的可在单次或循环模式下把痕量金属钠、铁、钾、钙降低到每百万单位个位数水平的离子交换技术。竞争对手的净化器只是在介质表面上包含离子交换技术,而Zeta Plus净化器能把整个深层介质的离子污染全部清除掉。这项新技术提供了一种对每面积单位进行净化的更加有效的方法,同时流动性更高、过滤成本更低。

  正电强化膜

  CUNO 是最先为DI水过滤提供正电荷强化的尼龙6,6膜的公司之一。与传统的机械筛(孔尺寸)过滤器相比,我们获得专利的尼龙6,6正电荷强化膜能更好地去除颗粒

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